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自动化工业级原子力显微镜
更新时间:2019-01-29
产品型号:Park Systems NX-Wafer
描述:Park Systems自动化工业级原子力显微镜NX-Wafer
仪器种类:原子力显微镜
样品台移动范围:275mm*200, 375mm*300mm
样品尺寸:≤300mm
定位检测噪声:≤0.05nm

Park Systems NX-Wafer自动化工业级原子力显微镜的详细资料:

自动化工业级原子力显微镜,带来线上晶片检查和测量

 

Park Systems推出业内低噪声的全自动化工业级原子力显微镜——XE-Wafer。该自动化原子力显微镜系统旨在为全天候生产线上的亚米级晶体(尺寸200 mm和300 mm)提供线上高分辨率表面粗糙度、沟槽宽度、深度和角度测量。借助True Non-Contact™模式,即便是在结构柔软的样品,例如光刻胶沟槽表面,XE-Wafer可以实现无损测量。

现有问题
目前,硬盘和半导体业的工艺工程师使用成本高昂的聚焦离子束(FIB)/扫瞄式电子显微镜(SEM)获取纳米级的表面粗糙度、侧壁角度和高度。不幸的是,FIB/SEM会破坏样品,且速度慢,成本高昂。

解决方案
NX-Wafer原子力显微镜实现全自动化的在线200 mm & 300 mm晶体表面粗糙度、深度和角度测量,且速度快、精度高、成本低。

益处
NX-Wafer让无损线上成像成为可能,并实现多位置的直接可重复高分辨率测量。更高的精确度和线宽粗糙度监控能力让工艺工程师得以制造性能更高的仪器,且成本显著低于FIB/SEM。

应用
串扰消除实现无伪影测量
独特的解耦XY轴扫描系统提供平滑的扫描平台
平滑的线性XY轴扫描将伪影从背景曲率中消除
精确的特征特亮和丰富的仪表统计功能
卓越的工具匹配

CD(临界尺寸)测量
出众的精确且精密纳米测量在提高效率的同时,也为重复性与再现性研究带来*高的分辨率和*低的仪表西格玛值。

 

精密的纳米测量
媒介和基体亚纳米粗糙度测量
凭借行业*低的噪声和创新的True Non-ContactTM模式,XE-Wafer在*平滑的媒介和基体样品上实现*精确的粗糙度测量。

精确的角度测量
Z轴扫描正交性的高精度校正让角度测量时精确度小于0.1度。

 

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